無論是在光(guang)刻工藝、晶圓探測和測試，還是晶圓安裝和切割過程(cheng)中(zhong)，視覺對(dui)(dui)準不良(liang)都會(hui)在機器的(de)(de)整個使用壽命期(qi)間造成(cheng)數以千計的(de)(de)對(dui)(dui)位損壞(huai)的(de)(de)晶圓。表(biao)現不佳的(de)(de)視覺系統會(hui)降低半導體設備公司的(de)(de)市場份額，大(da)大(da)增加其(qi)成(cheng)本。

      PatMax技術為晶(jing)(jing)圓(yuan)檢測(ce)、探測(ce)、安裝、切割(ge)和(he)(he)(he)測(ce)試設備提供穩定、準確(que)且(qie)快(kuai)速的圖案定位，以(yi)幫(bang)助(zhu)避免(mian)這(zhe)些問(wen)題。PatMax使用獲得專利的幾(ji)何圖案發現(xian)算法(fa)來定位和(he)(he)(he)對(dui)齊可(ke)變晶(jing)(jing)圓(yuan)和(he)(he)(he)晶(jing)(jing)粒圖案。它(ta)能(neng)以(yi)非(fei)常高的精度(du)和(he)(he)(he)可(ke)重復性(xing)對(dui)準晶(jing)(jing)圓(yuan)和(he)(he)(he)晶(jing)(jing)片(pian)，確(que)保整個半導體(ti)制造流(liu)程中設備性(xing)能(neng)的可(ke)靠性(xing)。借助(zhu)康耐視技術的幫(bang)助(zhu)，OEM能(neng)夠優化設備的整體(ti)性(xing)能(neng)，從而提高質量和(he)(he)(he)產量。